Kimia dengan nombor CAS 79 - 10 - 7 adalah asid asetik. Asid asetik adalah sebatian kimia yang terkenal dan digunakan secara meluas dengan sejarah aplikasi yang kaya dalam pelbagai industri. Sebagai pembekal CAS: 79 - 10 - 7, saya akan menyelidiki sifat penjerapannya di blog ini.
Pengenalan umum kepada asid asetik
Asid asetik, juga dikenali sebagai asid etanoik, adalah asid karboksilik mudah. Ia mempunyai formula kimia (CH_ {3} COOH). Pada suhu bilik, asid asetik tulen (asid asetik glasial) adalah cecair tanpa warna dengan bau pedas. Ia boleh didapati dengan air, etanol, dan pelarut kutub yang lain. Asid asetik adalah bahan kimia perindustrian yang penting, yang digunakan dalam pengeluaran monomer vinil asetat, anhidrida asetik, dan derivatif ester. Ia juga mempunyai aplikasi dalam industri makanan sebagai ejen perasa dan pengawet, dalam industri tekstil untuk pencelupan dan penamat, dan dalam industri farmaseutikal.
Mekanisme penjerapan asid asetik
Penjerapan fizikal
Penjerapan fizikal, juga dikenali sebagai fisisorpsi, adalah proses di mana molekul asid asetik tertarik kepada permukaan penyerap melalui daya intermolecular yang lemah seperti daya van der Waals dan ikatan hidrogen. Angkatan van der Waals termasuk daya penyebaran London, interaksi dipole - dipole, dan interaksi dipole dipole - dipole.
Sebagai contoh, pada bahan berliang seperti karbon diaktifkan, molekul asid asetik boleh diserap secara fizikal. Karbon diaktifkan mempunyai kawasan permukaan yang besar dan struktur yang sangat berliang. Kawasan bukan polar permukaan karbon diaktifkan boleh berinteraksi dengan bahagian bukan polar molekul asid asetik ((CH_ {3})) melalui daya penyebaran London. Pada masa yang sama, kumpulan karbonil polar ((C = O)) dan kumpulan hidroksil ((O - H)) dalam asid asetik boleh membentuk ikatan hidrogen dengan kumpulan fungsi kutub pada permukaan karbon diaktifkan, seperti kumpulan hidroksil atau kumpulan karboksil.
Proses penjerapan biasanya boleh diterbalikkan. Apabila suhu meningkat, tenaga kinetik molekul asid asetik meningkat, dan daya intermolecular yang lemah diatasi, yang membawa kepada desorpsi molekul asid asetik dari permukaan penjerap.
Penjerapan kimia
Penyerapan kimia, atau kimia, melibatkan pembentukan ikatan kimia antara molekul asid asetik dan permukaan penjerap. Proses ini sering tidak dapat dipulihkan atau hanya boleh diterbalikkan di bawah keadaan yang melampau.
Pada permukaan oksida logam, seperti aluminium oksida ((al_ {2} o_ {3})), asid asetik boleh bertindak balas secara kimia. Hidrogen berasid dalam asid asetik boleh bertindak balas dengan atom oksigen asas pada permukaan oksida logam. Sebagai contoh, tindak balas berikut boleh berlaku:
(2ch_ {3} COOH + al_ {2} o_ {3} \ rightarrow 2ch_ {3} cooalo + h_ {2} o)
Dalam tindak balas ini, kompleks asetat - aluminium terbentuk di permukaan aluminium oksida. Jenis penjerapan kimia ini dapat mengubah sifat permukaan penyerap dan sifat asid asetik yang terserap.
Faktor yang mempengaruhi penjerapan asid asetik
Suhu
Seperti yang dinyatakan sebelum ini, suhu mempunyai kesan yang signifikan terhadap penjerapan fizikal dan kimia. Dalam penjerapan fizikal, peningkatan suhu umumnya membawa kepada penurunan kapasiti penjerapan. Ini kerana peningkatan tenaga kinetik molekul asid asetik menjadikannya lebih mudah bagi mereka untuk melepaskan diri dari daya intermolecular yang lemah yang memegang mereka ke permukaan penjerap.
Dalam penjerapan kimia, kesan suhu lebih kompleks. Pada suhu yang rendah, kadar tindak balas antara asid asetik dan penyerap mungkin terlalu lambat untuk penjerapan kimia yang ketara berlaku. Apabila suhu meningkat, kadar tindak balas meningkat, dan kapasiti penjerapan boleh meningkat sehingga titik tertentu. Walau bagaimanapun, jika suhu terlalu tinggi, ikatan kimia yang terbentuk semasa kimia boleh pecah, yang membawa kepada penurunan kapasiti penjerapan.
Tekanan
Untuk penjerapan fizikal, peningkatan tekanan biasanya membawa kepada peningkatan kapasiti penjerapan. Menurut teori isotherm yang pepejal gas, seperti isotherm Langmuir dan isotherm Freundlich, pada suhu malar, jumlah gas (dalam kes ini, wap asid asetik) terserap pada permukaan pepejal adalah berkadar dengan tekanan separa gas. Apabila tekanan meningkat, lebih banyak molekul asid asetik tersedia untuk berinteraksi dengan permukaan penjerap, menghasilkan jumlah penjerapan yang lebih tinggi.
Dalam penjerapan kimia, kesan tekanan kurang mudah. Sekiranya tindak balas kimia antara asid asetik dan penyerap melibatkan reaktan gas, peningkatan tekanan boleh meningkatkan kadar tindak balas dan kapasiti penjerapan. Walau bagaimanapun, jika tindak balas dibatasi oleh faktor lain seperti ketersediaan tapak reaktif pada permukaan penjerap, kesan tekanan mungkin kurang penting.
Sifat permukaan penyerap
Kawasan permukaan, pengedaran saiz liang, dan kimia permukaan memainkan peranan penting dalam penjerapan asid asetik. Kawasan permukaan yang lebih besar menyediakan lebih banyak tapak untuk molekul asid asetik untuk diserap. Sebagai contoh, karbon yang diaktifkan dengan kawasan permukaan yang tinggi (sehingga (1000 - 2000 m^{2}/g)) boleh menyerap sejumlah besar asid asetik berbanding dengan bahan dengan kawasan permukaan yang lebih rendah.
Pengagihan saiz liang juga penting. Sekiranya saiz pori penyerap terlalu kecil, molekul asid asetik mungkin tidak dapat memasuki liang -liang, mengurangkan kawasan permukaan yang berkesan untuk penjerapan. Sebaliknya, jika saiz liang terlalu besar, interaksi antara molekul asid asetik dan dinding liang mungkin lemah, menyebabkan kapasiti penjerapan yang lebih rendah.
Kimia permukaan penjerap mempengaruhi jenis penjerapan. Permukaan dengan kumpulan fungsi kutub dapat meningkatkan penjerapan fizikal melalui ikatan hidrogen dan interaksi dipole - dipole. Permukaan dengan tapak reaktif boleh menggalakkan penjerapan kimia. Sebagai contoh, permukaan oksida logam dengan tapak asas boleh bertindak balas dengan asid asetik untuk membentuk ikatan kimia.
Aplikasi yang berkaitan dengan penjerapan asid asetik
Pembersihan udara
Asid asetik kadang -kadang terdapat dalam gas sisa industri, terutamanya dalam industri kimia dan makanan. Proses penjerapan boleh digunakan untuk mengeluarkan asid asetik dari udara. Penapis karbon yang diaktifkan biasanya digunakan dalam sistem pembersihan udara. Penyerapan fizikal asid asetik pada karbon aktif dapat mengurangkan kepekatan asid asetik di udara, meningkatkan kualiti udara di tempat kerja dan persekitaran dalaman.
Rawatan Air Sisa
Dalam air kumbahan dari industri seperti tekstil, kimia, dan pemprosesan makanan, asid asetik mungkin hadir. Adsorben boleh digunakan untuk mengeluarkan asid asetik dari air sisa. Sebagai contoh, resin pertukaran ion boleh digunakan untuk penjerapan asid asetik. Kumpulan berasid dalam asid asetik boleh bertukar dengan kumpulan berfungsi pada resin pertukaran ion, yang membawa kepada penyingkiran asid asetik dari air sisa.
Produk dan persembahan kami
Sebagai pembekal CAS: 79 - 10 - 7, kami menawarkan pelbagai produk asid asetik untuk memenuhi keperluan pelanggan yang berbeza. KamiAsid asetikadalah berkualiti tinggi dan sesuai untuk pelbagai aplikasi perindustrian. Kami juga menyediakanBiotek - Asid asetik gred untuk budaya sel dan sistem penapaian, yang dirumuskan khas untuk memenuhi keperluan ketat industri bioteknologi. Di samping itu, kamiAsid Acetic Glacial - Tinggi - Gred Kemurnian untuk Penggunaan Farmaseutikal dan Kosmetikadalah kesucian tertinggi dan sesuai untuk aplikasi farmaseutikal dan kosmetik.
Sekiranya anda berminat dengan produk asid asetik kami atau mempunyai sebarang pertanyaan mengenai sifat penjerapan asid asetik dalam aplikasi khusus anda, sila hubungi kami untuk perbincangan lanjut dan rundingan perolehan. Kami komited untuk memberikan anda produk dan perkhidmatan terbaik.
Rujukan
- Lowell, S., Shields, JE, Thomas, MA, & Thommes, M. (2013). Pencirian pepejal dan serbuk berliang: kawasan permukaan, saiz liang dan ketumpatan. Springer.
- Rouquerol, F., Rouquerol, J., & Sing, K. (1999). Penjerapan oleh serbuk dan pepejal berliang: prinsip, metodologi dan aplikasi. Akhbar Akademik.
- Thomas, HC (1996). Asas penjerapan. Imperial College Press.